특허청, 패션디자인 보호 위한 '2016 디자인보호포럼' 개최
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특허청, 패션디자인 보호 위한 '2016 디자인보호포럼' 개최
  • 이형규 기자
  • 승인 2016년 09월 19일 18시 32분
  • 지면게재일 2016년 09월 19일 월요일
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패션디자이너를 위한 다양한 지식재산권 정보를 제공

특허청은 재단법인 서울디자인재단과 30일 서울 동대문디자인플라자 나눔관에서 패션디자인 분야 다양한 지식재산권 정보 공유를 위한 '2016 디자인보호포럼'을 연다고 19일 밝혔다.

이번 포럼은 패션업계의 지재권 위반 실태를 진단하고 대안을 모색하는 한편 해외 진출을 위해 패션 디자이너들이 숙지해야 할 지식재산권 정보를 소개하는 자리다.

포럼은 △패션디자인의 모방 유형과 원인·특징 등 실태 분석 △패션디자인의 효과적인 권리 확보 및 분쟁 대응 전략 △패션디자인 트렌드 변화에 따른 법적 이슈 △외국 사례 및 대안적 제도 모색 등이다. 또 해당 분야 전문가들의 주제 발표와 패널 토의도 선보인다.

디자이너·학생·기업 담당자 등 패션디자인의 권리 보호에 관심있는 사람이라면 누구나 디자인맵(designmap.or.kr)을 통해 신청하면 포럼에 무료로 참가할 수 있다.

참가자들은 현장에서 패션디자인 권리 보호에 관한 다양한 의견을 청취하고 질의응답을 통해 궁금증도 해소할 수 있다.

최규완 특허청 상표디자인심사국장은 "이번 포럼은 지식재산권에 대한 올바른 지식을 전달, 패션업계의 건전한 창작 생태계 조성에 도움이 될 것"이라며 "최근 패션업계의 일부 무분별한 모방 행위에 대한 경각심도 불러올 것으로 기대한다"고 말했다. 이형규 기자 hk@cctoday.co.kr